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光学玻璃用纯水设备清洗工艺流程及优点介绍

浏览次数:256次发表时间:2020-07-15

  光学玻璃用纯水设备清洗工艺包括四个流程:洗涤、漂洗、脱水、干燥。因为洗涤过程分溶剂清洗和水基清洗,所以有不同的工艺:有先进行溶剂清洗、溶剂蒸汽干燥再进行水基清洗;也有先进行溶剂清洗,再用乳化剂溶解溶剂,再进行水基清洗的。利用流水将洗涤后镜片表面的洗剂和污物溶解、排除的过程称为漂洗。
 
  影响漂洗效果的因素有以下几个:洗剂的漂清性能,漂洗水的纯度、温度以及流动性等。一般在常温下,电导率为0.1μs/cm2的纯水可以保证漂洗的要求。 经过漂洗后的镜片表面的洁净度应和漂洗水洁净度一致。
 
  常用的处理工艺为:反渗透+EDI(电去离子法)使产品水水质能达到0.1μs/cm2。反渗透+EDI高纯水系统是利用反渗透系统除去水中95-97%以上的离子杂质,再用后级EDI精处理,除去水中剩余离子,产水水质电阻率一般达到1-15兆欧姆25℃反渗透与混床的完美结合,有着设备投资省,运行成本低,管理维护方便等特点.反渗透ROReverse Osmosis技术是利用压力差为动力的膜分离过滤技术,源于美国二十世纪六十年代宇航科技的研究,后逐渐转化为民用,目前已广泛运用于科研医药食品饮料海水淡化等领域.(RO)反渗透膜孔径小至纳米级,在一定的压力下,H2O分子可以通过RO膜,而源水中的无机盐重金属离子有机物胶体细菌病毒等杂质无法通过RO膜,从而使可以透过的纯水和无法透过的浓缩水严格区分开来.
 
  EDI又称连续电除盐(Electro deionization或CDI,continuous electrode ionization),是将两种已经成熟的水净化技术--电渗析和离子交换相结合,溶解的盐在低能耗的条件下被去除,在运行过程中不需要化学再生,并且其出水电阻率较混床出水还要高,可达10-15MΩ/CM,满足国家电子级水I级标准。EDI对一级反渗透出水电导率没有太高的要求,进水电导率在4-12us∕cm其都能够合格产水。属于环保型技术,离子交换树脂不需酸、碱化学再生,节约大量酸、碱和清洗用水,大大降低了劳动强度。更重要的是无废酸、废碱液排放,属于非化学式的水处理系统,它无需酸、碱的贮存、处理及无废水的排放。
 
  光学镜片玻璃清洗用超纯水设备具有以下优点:
 
  (1) 出水水质优良,出水pH值接近中性.
 
  (2) 出水水质稳定,短时间运行条件变化如进水水质或组分、运行流速等对混床出水水质影响不大.
 
  (3) 间断运行对出水水质的影响小,恢复到停运前水质所需的时间比较短.
 
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