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单晶硅炉用超纯水设备1

单晶硅炉用超纯水设备1是专门用于单晶硅生产加工用水的装置,出水水质具有无污染,抗导电的作用。将水中的离子几乎去除,又将水中的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备,超纯水设备取代了传统的离子交换技术,生产出稳定的去离子水是佳水处理技术。

更新时间:2020-07-14
产品型号:ZSCE-5000L
厂商性质:生产厂家
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单晶硅炉用超纯水设备1的具体参数如下:

超纯水处理:既将水中的导电介质几乎完全去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm,或接近18.3MΩ*cm极限值(25℃)。超纯水处理,是一般工艺很难达到的程度,采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤,多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法,电阻率方可达18.25MΩ*cm(25℃)。

工业超纯水处理:RO+CEDI+SMB
设备处力:按客户要求设计
出水指标:≥16-18.2MΩ.CM
产水用途:电子、等行业用工业超纯水

反渗透+EDI
设备处力:按客户要求设计
出水指标:≥16-.18.2MΩ.CM
产水用途:电子、单晶硅/多晶硅用工业超纯水、纯水工业

超纯水处理:RO+CEDI+SMB

设备处力:按客户要求设计
出水指标:≥16-18.2MΩ.CM
产水用途:电子、等行业用工业超纯水

反渗透(膜分离法)超纯水分离技术:反渗透是用足够的压力使溶液中的溶剂(一般指水)通过反渗透膜(一种半透膜)而分离出来,方向与渗透方向相反,可使用大于渗透压的反渗透法进行分离、提纯和浓缩溶液。反渗透膜的主要分离对象是溶液中的离子范围

反渗透分离过程有如下优点:①不需加热,没有相变②能耗少,过程连续稳定③设备体积小、操作简单、适应性强④对环境不产生污染

反渗透纯水系统根据不同的源水水质采用不同的工艺,一般自来水经一级反渗透处理后,产水电导率<10~20us/cm,经二级反渗透处理后<5us/cm,甚至更低,在反渗透系统后辅以离子交换设备或EDI设备可以制备超纯水,使电阻率高达18.2兆欧姆.厘米。

单晶硅炉用超纯水设备1相关应用:

1、电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。
2、化工工艺用水、化学药剂、化妆品等用纯水。
3.单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺用纯水。

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