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电镀高纯水设备

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更新时间:2020-09-19
产品型号:ZSCA-10000L
厂商性质:生产厂家
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  • 产品详细

电镀高纯水设备概述:

电镀涂装行业中,为了增加镀件表面光洁度、亮度、附着力,电镀液的配制需要用电导率在15uS/cm以下的纯水,另外在镀件漂洗时也需用电导率在10uS/cm以下纯水来清洗。电镀涂装反渗透设备主要用于电镀涂装用水的纯水制取,通常系统由预处理系统、超滤装置、反渗透装置、EDI装置等组合而成,以满足电镀行业对水质的要求。

电镀高纯水设备技术原理:

EDI (连续电解除盐技术) :是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。EDI设施的除盐率可以高达99%以上,如果在EDI之前使用反渗透设备对水进行初步除盐,再经EDI除盐就可以生产出电阻率高达15MΩ. CM以上的超纯水。

FEDI:独立的分段设计,进水要求低,产水电导率40us/cm以下的单级反渗透既可以满足供水要求。使用不同的电压驱动,对强弱离子分离去除,为去离子创造良好条件,产水导电率可达0. 1us/cm以下。浓水可回收至反渗透系统,综合回收率高达90%-95%。

抛光混床:一般情况用在工艺末端,用来进一步提高产水水质。采用高交换容量、充分再生、无化学析出的核子级树脂,去除纯水中残余的微量带电离子及弱电解质,使水质达到18MΩ. CM以上。

设备特性:

1、产水水质高,出水稳定

2、连续不间断制水,不因再生而停机

3、自动化程度高,遇故障立即自停,具有自动保护功能

4、不须酸碱再生,无污水排放,无酸碱再生设备和化学药品储运

5、先进的膜保护系统,关机时可自动冲洗膜面污染物,延长膜使用寿命

6、能耗低,水利用率高,运行费用及维修成本低

7、设备结构紧凑,占地面积小,节省基建投资

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